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簡要描述：我們所提供的OS紫外臭氧清洗機系統(tǒng)是一種簡單，經(jīng)濟，高效的材料表面清洗設備。只需把樣品放置到托盤上，關上艙門，設置時間，按下運行按鈕，就可以在幾分鐘內，快速去除大多數(shù)無機基材上的有機污染物，為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產生臭氧，將污染物分解成揮發(fā)性化合物。這些揮發(fā)性化合物從表面蒸發(fā)而*跡。這種方法可產生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品。
產品型號：L2002A3 廠商性質：代理商更新時間：2025-02-10訪 問 量：2734詳細介紹
應用工藝：
•改善表面親水性
•表面清洗
•準備薄膜沉積
•表面處理
•紫外固化
•表面滅菌消毒
•去除表面單分子膜
•表面氧化
•清洗AFM / STM探針
•清洗光學元件
可清洗的基材示例：
•石英
•硅
•氧化硅
•氮化硅
•金
•鎳
•鋁
•砷化鎵
•礬土
•玻璃
•不銹鋼
可去除的污染物示例：
•光刻膠
•樹脂
•人體皮膚油脂
•清洗溶劑的殘留物
•塑料/硅片表面油漬
•助焊劑
產品特點：
•成本低；
•120x120mm樣品臺；
•Z大處理樣品高度為14mm；
•抽屜式樣品臺，簡單方便；
•樣品臺自安全聯(lián)鎖，防止對人身傷害；
•LCD屏顯示“已用時間"和“剩余時間"；
•60分鐘計時器；
•高強度紫外線燈源；
•可控溫的樣品臺；
•樣品清洗無需溶劑；
•超凈表面。
下圖顯示了UV臭氧處理對基材的影響，以改善表面親水性。
水滴在OTS處理的硅基底(300納米二氧化硅表面)上，經(jīng)過紫外臭氧清洗處理前（左圖）和處理后（右圖）的效果對比。
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